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  • TCU-無(wú)錫冠亞高低溫ZLF-200NSH

    TCU-無(wú)錫冠亞高低溫ZLF-200NSH，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

    更新時(shí)間：2024-01-03

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  • TCU-無(wú)錫冠亞冷熱循環(huán)機ZLF-200NH

    TCU-無(wú)錫冠亞冷熱循環(huán)機ZLF-200NH，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

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  • TCU-無(wú)錫冠亞制冷制熱一體機ZLF-200NS

    TCU-無(wú)錫冠亞制冷制熱一體機ZLF-200NS，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

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  • TCU-無(wú)錫冠亞加熱制冷系統ZLF-200N

    TCU-無(wú)錫冠亞加熱制冷系統ZLF-200N，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

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  • TCU-無(wú)錫冠亞加熱冷卻系統ZLF-125NSH

    TCU-無(wú)錫冠亞加熱冷卻系統ZLF-125NSH，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

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  • TCU-無(wú)錫冠亞制冷加熱溫控系統ZLF-125NH

    TCU-無(wú)錫冠亞制冷加熱溫控系統ZLF-125NH，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

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