無(wú)錫冠亞tcu溫控單元ZLF-50NSH TCU，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

無(wú)錫冠亞tcu溫度控制單元ZLF-50NH TCU，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

無(wú)錫冠亞tcu溫度控制系統ZLF-50NS TCU，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

無(wú)錫冠亞加熱制冷設備ZLF-50N TCU，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

無(wú)錫冠亞制冷加熱循環(huán)裝置ZLF-35NSH TCU，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

無(wú)錫冠亞高低溫循環(huán)裝置ZLF-35NH TCU控溫，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。